Vechea procedura de litografiere este folosita in
numeroase contexte si astazi, avansul tehnologic permitand dezvoltarea unor
metode care sa serveasca scopurilor si nevoilor umane contemporane. Litografia
optica, utilizata la producerea electronicelor la scara larga, ar putea fi
inlocuita, intr-un viitor nu foarte indepartat, cu una revolutionara, folosita
deja. Astfel vor lua nastere litografiile
obtinute prin nanoimprimare.
In prezent, dispozitivele electronice sunt produse in
masa prin doua metode litografice: cea optica si cea cu fascicul de electroni
sau cu un AFM. Viitorul insa ar putea vedea raspandirea unei tehnologii mai
avansate, cu numeroase avantaje.
Istoria litografiei prin nanoimprimare
Posibilitatea crearii de litografii
prin nanoimprimare a fost mentionata intr-un articol stiintific in anul 1996,
cand un profesor de la Universitatea din Minnesota reusea sa demonstreze
capacitatea de a crea dispozitive ale caror dimensiuni laterale sa fie de doar
25 nanometri. Astazi, la aproape 20 de ani de atunci, pot fi realizate produse
electronice ale caror dimensiuni nu depasesc 10 nm.
Avantajele litografiei prin
nanoimprimare
De ce ar fi interesati specialistii sa obtina litografii, sub
forma de dispozitive electronice, prin nanoimprimare? Deoarece aceasta tehnica
prezinta multiple avantaje. Pentru inceput, este ieftina, costurile sale fiind
similare tehnicii litografice optice. Apoi, vorbim despre o tehnica simpla,
care nu este limitata de imprastiere sau difractie.
Ce obstacole intampina astazi
litografia prin nanoimprimare
Cu toate acestea, aceasta tehnologie revolutionara nu
este folosita, pentru moment, la productia in masa a dispozitivelor electronice
din simplul fapt ca depinde de alte tehnologii litografice care ar trebui sa
fie suficient de avansate pentru a realiza matrite ale caror detalii sa fie mai
mici de 10 nanometri.
Pentru moment, Toshiba
este una dintre singurele companii la nivel mondial care se foloseste de
aceasta tehnica, pentru a obtine litografii ale icoanelor, de o serie de dispozitive electronice. Compania japoneza dispune de o linie de productie care
utilizeaza tehnica litografiei prin nanoimprimare pentru realizarea de
dispozitive cu dimensiuni de 22 nm.
